佳能推出先进的光刻系统以促进半导体生产
Summary:
日本著名公司佳能（Canon）推出了“纳米压印光刻”系统，以协助生产先进的半导体零件。这标志着该公司对荷兰公司ASML的竞争反应，该公司是EUV光刻机领域的领导者。佳能的新系统FPA-1200NZ2C声称使用5nm工艺制造半导体，同时缩小到2nm，超过了苹果最新的A17 Pro芯片的性能。这些发明正值美国和中国之间的技术争端加剧之际，出口限制影响了高端半导体芯片的生产。
日本知名企业佳能于 10 月 13 日星期五公布了一项关键创新，致力于支持前卫半导体零件的创造。CNBC报道称，佳能的新型“纳米压印光刻”系统是该公司对荷兰ASML公司的回应，ASML是极紫外（EUV）光刻设备行业的巨头。ASML的技术在高端芯片的制造中起着至关重要的作用，包括那些包含在最新型号的Apple iPhone中的芯片。在中美之间的技术冲突中，这种机器的使用已成为争论的焦点。通过实施各种制裁和出口限制，美国正在积极阻止中国获得重要的芯片和制造机械，从而阻碍了世界第二大经济体在已经落后的领域的发展。ASML的EUV技术因其在促进5纳米或更小尺寸半导体开发方面的关键作用而受到顶级芯片制造商的欢迎。纳米测量表明芯片特征的尺寸，更小的数字允许更高的特征密度，从而提高半导体的能力。佳能在一份声明中声称，其名为FPA-1200NZ2C的新型系统可以使用5nm工艺制造半导体，并缩小到2nm，超过了集成在最新苹果iPhone 15 Pro和Pro Max中的A17 Pro芯片的性能，后者是一款3nm设备。荷兰政府对ASML施加了限制，禁止其EUV光刻机出口到中国，到目前为止还没有向中国派遣任何单位。这些限制是由于这些机器在制造高端半导体芯片中发挥的基本作用。随着佳能宣布其新机器能够协助生产2nm等效半导体，预计审查将扩大。据Cointelegraph报道，在相关新闻中，拜登政府正在瞄准一个漏洞，该漏洞使中国开发商能够从中国南方城市深圳臭名昭著的华强北电子市场获得芯片。然而，中国已经为提供生成人工智能（AI）服务的企业发布了安全指南草案，包括对用于AI模型指令的数据源的限制。
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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