Canon lança sistema avançado de litografia para aumentar a produção de semicondutores
Summary:
A Canon lançou um sistema de "litografia de nanoimpressão" para auxiliar na produção de peças semicondutoras avançadas. Isso marca a resposta competitiva da empresa à empresa holandesa ASML, líder no setor de máquinas de litografia EUV. O novo sistema da Canon, o FPA-1200NZ2C, afirma fabricar semicondutores usando um processo de 5nm enquanto reduz para 2nm, superando o desempenho do mais recente chip A17 Pro da Apple. Essas invenções ocorrem em meio ao aumento da disputa tecnológica entre os EUA e a China, com restrições de exportação impactando a produção de chips semicondutores de ponta.
A renomada empresa japonesa Canon tornou pública uma inovação crucial na sexta-feira, 13 de outubro, dedicada a apoiar a criação de peças semicondutoras de vanguarda. A CNBC informou que o novo sistema de "litografia de nanoimpressão" da Canon é a resposta da empresa à empresa holandesa ASML, uma potência na indústria de equipamentos de litografia ultravioleta extremo (EUV). A tecnologia da ASML desempenha um papel vital na fabricação de chips high-end, incluindo aqueles incorporados nos modelos mais recentes de iPhones da Apple. O uso dessas máquinas se tornou um ponto de discórdia em meio ao embate tecnológico entre EUA e China. Ao impor várias sanções e limitações de exportação, os EUA estão impedindo ativamente a China de obter acesso a chips vitais e máquinas de fabricação, prejudicando assim o desenvolvimento da segunda maior economia do mundo em um campo onde já está atrasada. A tecnologia EUV da ASML tornou-se popular entre os principais fabricantes de chips devido à sua parte fundamental em facilitar o desenvolvimento de semicondutores de 5 nanômetros ou tamanho menor. A medição nanométrica indica o tamanho das características do chip, com figuras menores permitindo maior densidade de recursos, melhorando assim as capacidades do semicondutor. A Canon afirmou em um comunicado que seu novo sistema, chamado FPA-1200NZ2C, pode fabricar semicondutores usando um processo de 5nm e reduzir para 2nm, superando o desempenho do chip A17 Pro integrado no mais recente Apple iPhone 15 Pro e Pro Max, que é um dispositivo de 3nm. O governo holandês impôs restrições à ASML, proibindo a exportação de suas máquinas de litografia EUV para a China, sem que nenhuma unidade tenha sido despachada para lá até agora. Essas restrições se devem ao papel essencial desempenhado por essas máquinas na criação de chips semicondutores de última geração. À medida que a Canon declara a capacidade de sua nova máquina de ajudar na produção de semicondutores equivalentes a 2nm, espera-se que o escrutínio se amplie. Em notícias relacionadas, conforme relatado pelo Cointelegraph, o governo Biden está zerando uma brecha que permitiu que desenvolvedores chineses adquirissem chips do famoso mercado de eletrônicos Huaqiangbei em Shenzhen, uma cidade do sul da China. A China, no entanto, emitiu um esboço de diretrizes de segurança para empresas que fornecem serviços generativos de inteligência artificial (IA), incluindo limites nas fontes de dados usadas para instrução de modelos de IA.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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