Canon presenta un avanzado sistema de litografía para impulsar la producción de semiconductores
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Canon, la destacada firma japonesa, ha lanzado un sistema de "litografía de nanoimpresión" para ayudar en la producción de piezas semiconductoras avanzadas. Esto marca la respuesta competitiva de la empresa a la empresa holandesa ASML, líder en el sector de las máquinas de litografía EUV. El nuevo sistema de Canon, el FPA-1200NZ2C, afirma fabricar semiconductores utilizando un proceso de 5 nm mientras se reduce a 2 nm, superando el rendimiento del último chip A17 Pro de Apple. Estas invenciones se producen en medio de una creciente disputa tecnológica entre Estados Unidos y China, con restricciones a la exportación que afectan a la producción de chips semiconductores de alta gama.
La renombrada empresa japonesa Canon, hizo pública una innovación crucial el viernes 13 de octubre, dedicada a apoyar la creación de piezas semiconductoras de vanguardia. CNBC informó que el nuevo sistema de "litografía de nanoimpresión" de Canon es la respuesta de la compañía a la empresa holandesa ASML, una potencia en la industria de equipos de litografía ultravioleta extrema (EUV). La tecnología de ASML juega un papel vital en la fabricación de chips de alta gama, incluidos los incorporados en los modelos más recientes de iPhones de Apple. El uso de este tipo de máquinas se ha convertido en la manzana de la discordia en medio del choque tecnológico entre Estados Unidos y China. Al imponer varias sanciones y limitaciones a la exportación, Estados Unidos está impidiendo activamente que China obtenga acceso a chips y maquinaria de fabricación vitales, lo que impide el desarrollo de la segunda economía más grande del mundo en un campo en el que ya se está quedando atrás. La tecnología EUV de ASML se ha vuelto popular entre los principales fabricantes de chips debido a su papel fundamental en la facilitación del desarrollo de semiconductores de 5 nanómetros o de menor tamaño. La medida nanométrica indica el tamaño de las características del chip, con cifras más pequeñas que permiten una mayor densidad de características, mejorando así las capacidades del semiconductor. Canon afirmó en un comunicado que su novedoso sistema, llamado FPA-1200NZ2C, puede fabricar semiconductores utilizando un proceso de 5 nm y reducirlo a 2 nm, superando el rendimiento del chip A17 Pro integrado en el último Apple iPhone 15 Pro y Pro Max, que es un dispositivo de 3 nm. El gobierno holandés ha impuesto restricciones a ASML, prohibiendo la exportación de su maquinaria de litografía EUV a China, sin que hasta ahora se hayan enviado unidades allí. Estas restricciones se deben al papel esencial que desempeñan estas máquinas en la creación de chips semiconductores de alta gama. A medida que Canon declara la capacidad de su nueva máquina para ayudar a producir semiconductores equivalentes a 2 nm, se prevé que el escrutinio se amplifique. En noticias relacionadas, según lo informado por Cointelegraph, la administración Biden se está concentrando en una laguna que permitió a los desarrolladores chinos adquirir chips del notorio mercado de productos electrónicos de Huaqiangbei en Shenzhen, una ciudad del sur de China. Sin embargo, China ha publicado un borrador de directrices de seguridad para las empresas que prestan servicios de inteligencia artificial (IA) generativa, incluidos los límites a las fuentes de datos utilizadas para la instrucción de modelos de IA.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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