Canon presenta un sistema litografico avanzato per aumentare la produzione di semiconduttori
Summary:
Canon, la nota azienda giapponese, ha lanciato un sistema di "litografia a nanoimpronta" per assistere nella produzione di parti avanzate di semiconduttori. Si tratta della risposta competitiva dell'azienda all'azienda olandese ASML, leader nel settore delle macchine litografiche EUV. Il nuovo sistema di Canon, l'FPA-1200NZ2C, afferma di produrre semiconduttori utilizzando un processo a 5 nm e di ridimensionare a 2 nm, superando le prestazioni dell'ultimo chip A17 Pro di Apple. Queste invenzioni arrivano nel mezzo di una crescente disputa tecnologica tra Stati Uniti e Cina, con restrizioni all'esportazione che hanno un impatto sulla produzione di chip semiconduttori di fascia alta.
Venerdì 13 ottobre, la rinomata azienda giapponese Canon ha reso pubblica un'innovazione cruciale, dedicata a sostenere la creazione di parti di semiconduttori all'avanguardia. La CNBC ha riferito che il nuovo sistema di "litografia a nanoimprint" di Canon è la risposta dell'azienda all'azienda olandese ASML, una potenza nel settore delle apparecchiature per la litografia ultravioletta estrema (EUV). La tecnologia di ASML svolge un ruolo fondamentale nella produzione di chip di fascia alta, compresi quelli incorporati nei modelli più recenti di iPhone Apple. L'uso di tali macchine è diventato un pomo della discordia in mezzo allo scontro tecnologico tra Stati Uniti e Cina. Imponendo varie sanzioni e limitazioni alle esportazioni, gli Stati Uniti stanno attivamente impedendo alla Cina di ottenere l'accesso a chip e macchinari di produzione vitali, arrestando così lo sviluppo della seconda economia più grande del mondo in un campo in cui è già in ritardo. La tecnologia EUV di ASML è diventata popolare tra i principali produttori di chip grazie al suo ruolo fondamentale nel facilitare lo sviluppo di semiconduttori di dimensioni inferiori o a 5 nanometri. La misurazione nanometrica indica le dimensioni delle caratteristiche del chip, con cifre più piccole che consentono una maggiore densità di caratteristiche, migliorando così le capacità del semiconduttore. Canon ha affermato in una dichiarazione che il suo nuovo sistema, denominato FPA-1200NZ2C, è in grado di produrre semiconduttori utilizzando un processo a 5 nm e di scalare fino a 2 nm, superando le prestazioni del chip A17 Pro integrato nell'ultimo Apple iPhone 15 Pro e Pro Max, che è un dispositivo a 3 nm. Il governo olandese ha imposto restrizioni all'ASML, vietando l'esportazione dei suoi macchinari per la litografia EUV in Cina, dove finora non sono state inviate unità. Queste restrizioni sono dovute al ruolo essenziale svolto da queste macchine nella creazione di chip semiconduttori di fascia alta. Poiché Canon dichiara la capacità della sua nuova macchina di assistere nella produzione di semiconduttori equivalenti a 2 nm, si prevede che il controllo si amplificherà. Nelle notizie correlate, come riportato da Cointelegraph, l'amministrazione Biden si sta concentrando su una scappatoia che ha permesso agli sviluppatori cinesi di acquisire chip dal famigerato mercato dell'elettronica Huaqiangbei a Shenzhen, una città della Cina meridionale. La Cina, tuttavia, ha pubblicato una bozza di linee guida sulla sicurezza per le aziende che forniscono servizi di intelligenza artificiale generativa (AI), compresi i limiti sulle fonti di dati utilizzate per l'istruzione dei modelli di IA.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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