Canon stellt fortschrittliches Lithografiesystem vor, um die Halbleiterproduktion anzukurbeln
Summary:
Canon, das bekannte japanische Unternehmen, hat ein "Nanoimprint-Lithographie"-System auf den Markt gebracht, um die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterteile zu unterstützen. Damit reagiert das Unternehmen wettbewerbsfähig auf das niederländische Unternehmen ASML, ein führendes Unternehmen im Bereich der EUV-Lithographiemaschinen. Das neue System von Canon, der FPA-1200NZ2C, soll Halbleiter in einem 5-nm-Prozess herstellen und gleichzeitig auf 2 nm herunterskaliert werden, was die Leistung von Apples neuestem A17 Pro-Chip übertrifft. Diese Erfindungen kommen inmitten eines zunehmenden Technologiestreits zwischen den USA und China, wobei sich Exportbeschränkungen auf die Produktion von High-End-Halbleiterchips auswirken.
Das renommierte japanische Unternehmen Canon hat am Freitag, den 13. Oktober, eine entscheidende Innovation veröffentlicht, die die Entwicklung von avantgardistischen Halbleiterteilen unterstützen soll. CNBC berichtete, dass das neue "Nanoimprint-Lithographie"-System von Canon die Antwort des Unternehmens auf das niederländische Unternehmen ASML ist, ein Kraftpaket in der Branche für Lithographiegeräte für extremes Ultraviolett (EUV). Die Technologie von ASML spielt eine wichtige Rolle bei der Herstellung von High-End-Chips, einschließlich derer, die in den neuesten Modellen von Apple iPhones enthalten sind. Der Einsatz solcher Maschinen ist inmitten des Technologiekonflikts zwischen den USA und China zu einem Zankapfel geworden. Durch die Verhängung verschiedener Sanktionen und Exportbeschränkungen hindern die USA China aktiv daran, Zugang zu lebenswichtigen Chips und Fertigungsmaschinen zu erhalten, und hemmen damit die Entwicklung der zweitgrößten Volkswirtschaft der Welt in einem Bereich, in dem sie bereits ins Hintertreffen geraten ist. Die EUV-Technologie von ASML ist bei führenden Chipherstellern beliebt geworden, da sie eine entscheidende Rolle bei der Entwicklung von Halbleitern mit einer Größe von 5 Nanometern oder kleineren Halbleitern spielt. Die Nanometermessung gibt die Größe der Chipmerkmale an, wobei winzigere Zahlen eine höhere Merkmalsdichte ermöglichen und so die Fähigkeiten des Halbleiters verbessern. Canon behauptete in einer Erklärung, dass sein neuartiges System mit der Bezeichnung FPA-1200NZ2C Halbleiter mit einem 5-nm-Prozess herstellen und auf 2 nm herunterskalieren kann, was die Leistung des A17 Pro-Chips übertrifft, der im neuesten Apple iPhone 15 Pro und Pro Max integriert ist, bei dem es sich um ein 3-nm-Gerät handelt. Die niederländische Regierung hat ASML Beschränkungen auferlegt und den Export ihrer EUV-Lithographiemaschinen nach China verboten, wobei bisher keine Einheiten dorthin versandt wurden. Diese Einschränkungen sind auf die wesentliche Rolle zurückzuführen, die diese Maschinen bei der Herstellung von High-End-Halbleiterchips spielen. Da Canon erklärt, dass seine neue Maschine in der Lage ist, bei der Herstellung von Halbleitern mit 2 nm zu helfen, wird erwartet, dass die Prüfung zunehmen wird. Wie Cointelegraph berichtet, konzentriert sich die Biden-Regierung auf ein Schlupfloch, das es chinesischen Entwicklern ermöglichte, Chips vom berüchtigten Elektronikmarkt Huaqiangbei in Shenzhen, einer südchinesischen Stadt, zu erwerben. China hat jedoch einen Entwurf für Sicherheitsrichtlinien für Unternehmen veröffentlicht, die generative Dienste im Bereich der künstlichen Intelligenz (KI) anbieten, einschließlich Beschränkungen für Datenquellen, die für den Unterricht in KI-Modellen verwendet werden.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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