Canon представляет передовую систему литографии для ускорения производства полупроводников
Summary:
Известная японская компания Canon запустила систему «нанопечатной литографии» для помощи в производстве передовых полупроводниковых деталей. Это является конкурентным ответом компании на голландскую компанию ASML, лидера в секторе литографических машин EUV. Новая система Canon, FPA-1200NZ2C, утверждает, что производит полупроводники по 5-нм техпроцессу с уменьшением до 2 нм, превосходя производительность последнего чипа Apple A17 Pro. Эти изобретения появились на фоне растущего технологического спора между США и Китаем, а экспортные ограничения влияют на производство высококачественных полупроводниковых чипов.
В пятницу, 13 октября, известное японское предприятие Canon обнародовало важнейшую инновацию, посвященную поддержке создания авангардных полупроводниковых деталей. Телеканал CNBC сообщил, что новая система «наноимпринтной литографии» от Canon является ответом компании нидерландской компании ASML, лидера в производстве оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Технология ASML играет жизненно важную роль в производстве высококачественных чипов, в том числе тех, которые используются в самых последних моделях Apple iPhone. Использование таких машин стало яблоком раздора на фоне технологического столкновения между США и Китаем. Вводя различные санкции и экспортные ограничения, США активно препятствуют Китаю получить доступ к жизненно важным чипам и производственному оборудованию, тем самым тормозя развитие второй по величине экономики мира в области, где она уже отстает. Технология EUV от ASML стала популярной среди ведущих производителей микросхем из-за ее ключевой роли в разработке полупроводников размером 5 нанометров или меньше. Нанометровое измерение указывает на размер элементов чипа, при этом более мелкие цифры обеспечивают более высокую плотность элементов, тем самым улучшая возможности полупроводника. В заявлении Canon утверждается, что ее новая система, получившая название FPA-1200NZ2C, может производить полупроводники по 5-нм техпроцессу и масштабироваться до 2 нм, превосходя производительность чипа A17 Pro, интегрированного в последние Apple iPhone 15 Pro и Pro Max, которые являются 3-нм устройством. Правительство Нидерландов наложило ограничения на ASML, запретив экспорт своего оборудования для EUV-литографии в Китай, и до сих пор туда не было отправлено ни одного оборудования. Эти ограничения обусловлены существенной ролью, которую играют эти машины в создании высококачественных полупроводниковых чипов. По мере того, как Canon заявляет о способности своей новой машины помогать в производстве полупроводников в 2-нм эквиваленте, ожидается, что пристальное внимание будет усиливаться. В связанных новостях, как сообщает Cointelegraph, администрация Байдена нацелилась на лазейку, которая позволила китайским разработчикам приобретать чипы на печально известном рынке электроники Huaqiangbei в Шэньчжэне, городе на юге Китая. Тем не менее, Китай выпустил проект руководства по безопасности для компаний, предоставляющих услуги генеративного искусственного интеллекта (ИИ), включая ограничения на источники данных, используемые для обучения моделей ИИ.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
Disclaimer: Algoine does not endorse any content or product on this page. Readers should conduct their own research before taking any actions related to the asset, company, or any information in this article and assume full responsibility for their decisions. This article should not be considered as investment advice. Our news is prepared with AI support.
Do you suspect this content may be misleading, incomplete, or inappropriate in any way, requiring modification or removal?
We appreciate your report.