Canon dévoile un système de lithographie avancé pour stimuler la production de semi-conducteurs
Summary:
Canon, la célèbre entreprise japonaise, a lancé un système de « lithographie par nano-impression » pour aider à produire des pièces semi-conductrices avancées. Il s’agit de la réponse concurrentielle de l’entreprise à la société néerlandaise ASML, leader dans le secteur des machines de lithographie EUV. Le nouveau système de Canon, le FPA-1200NZ2C, prétend fabriquer des semi-conducteurs à l’aide d’un processus de 5 nm tout en réduisant à 2 nm, surpassant les performances de la dernière puce A17 Pro d’Apple. Ces inventions interviennent dans un contexte de conflit technologique croissant entre les États-Unis et la Chine, les restrictions à l’exportation ayant un impact sur la production de puces semi-conductrices haut de gamme.
La célèbre entreprise japonaise Canon a rendu publique vendredi 13 octobre une innovation cruciale, dédiée au soutien à la création de pièces semi-conductrices d’avant-garde. CNBC a rapporté que le nouveau système de « lithographie par nano-impression » de Canon est la réponse de la société à la société néerlandaise ASML, une puissance dans l’industrie des équipements de lithographie dans l’ultraviolet extrême (EUV). La technologie d’ASML joue un rôle essentiel dans la fabrication de puces haut de gamme, y compris celles incorporées dans les modèles les plus récents d’iPhones d’Apple. L’utilisation de telles machines est devenue une pomme de discorde au milieu de l’affrontement technologique entre les États-Unis et la Chine. En imposant diverses sanctions et limitations à l’exportation, les États-Unis empêchent activement la Chine d’avoir accès à des puces et à des machines de fabrication vitales, retardant ainsi le développement de la deuxième plus grande économie du monde dans un domaine où elle est déjà à la traîne. La technologie EUV d’ASML est devenue populaire parmi les principaux fabricants de puces en raison de son rôle essentiel dans la facilitation du développement de semi-conducteurs de 5 nanomètres ou moins. La mesure nanométrique indique la taille des caractéristiques de la puce, avec des chiffres plus petits permettant une densité de caractéristiques plus élevée, améliorant ainsi les capacités du semi-conducteur. Canon a affirmé dans un communiqué que son nouveau système, nommé FPA-1200NZ2C, peut fabriquer des semi-conducteurs à l’aide d’un processus de 5 nm et passer à 2 nm, surpassant les performances de la puce A17 Pro intégrée dans les derniers iPhone 15 Pro et Pro Max d’Apple, qui est un appareil de 3 nm. Le gouvernement néerlandais a imposé des restrictions à ASML, interdisant l’exportation de ses machines de lithographie EUV vers la Chine, aucune unité n’y ayant été envoyée jusqu’à présent. Ces restrictions sont dues au rôle essentiel joué par ces machines dans la création de puces semi-conductrices haut de gamme. Alors que Canon déclare la capacité de sa nouvelle machine à aider à produire des semi-conducteurs équivalents à 2 nm, on s’attend à ce que l’examen s’intensifie. Dans le même ordre d’idées, comme l’a rapporté Cointelegraph, l’administration Biden se concentre sur une faille qui a permis aux développeurs chinois d’acquérir des puces sur le célèbre marché électronique de Huaqiangbei à Shenzhen, une ville du sud de la Chine. La Chine a toutefois publié un projet de directives de sécurité pour les entreprises fournissant des services d’intelligence artificielle (IA) générative, y compris des limites sur les sources de données utilisées pour l’instruction des modèles d’IA.
Published At
10/15/2023 1:13:25 PM
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